Aleación de aluminio de silicio de alta pureza de Sputtering vacío Material Objetivo

Marca Comercial
Gravel
Origen
China
Código del HS
8486909100
Capacidad de Producción
10000
Precio de referencia
$ 48.60 - 54.00
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Descripción de Producto

Desde el año 2009, nuestra empresa ha invertido y el desarrollo de la tecnología de recubrimiento de película delgada de sputtering vacío y la evaporación de recubrimiento para los chips de semi-conductor y mirco-electrónica, etc., en virtud de los institutos reserch apoyos técnicos y médicos/profesores de los repatriados en el extranjero, después de muchos años la práctica, es dueño de la fabricación de destino y la tecnología de recubrimiento de película delgada de equipo de profesionales de ingeniería y excelentes grupos de ventas.

Construimos y dar de alta pureza personalizado y de alta calidad objetivos de sputtering vacío, vacío evaporación pellets en aleación de metal precioso, cerámica   y materiales diferentes. Los objetivos tamaño podría ser cierto espesor en la ronda, Óvalo y Rectángulo, etc. Podríamos proporcionar tanto de un solo objetivo y el destino con el plato la servidumbre

High Purity Silicon Aluminum Alloy Vacuum Sputtering Target Material
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FAQ:
Q1: ¿Qué tipo de control de calidad que proporcionan productos?
A1:TQC para las materias primas, fabricación, salientes y servicio al cliente.

Q2:cómo usted puede rápidamente respuesta a las peticiones de clientes?
A2: somos dueños de los ingenieros de producto profesional con la actitud de satisfacción del cliente, la buena gestión de recursos productos.

P3: ¿cree usted que sus productos con precio competitivo?
A3: aplicar plenamente el sistema de gestión de calidad ISO9001, al mismo tiempo, tenemos un estricto sistema de gestión de costes, junto con la optimización de la fabricación de control, y la menor tasa de desecho.

 

 

Material Objetivo

VSIR.VN, 2023