Sial de Sputtering giratorio 3191mm de objetivos

Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS/Month
Precio de referencia
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Descripción de Producto

descripción de producto Con el plasma como fuente de calor, de alta pureza, de bajo contenido de oxígeno de alta densidad, SiAl blancos son producidos por el uso de Si y al polvo.  Si el punto de partida y al polvo se calientan a molten o semi-estado fundido con la protección de ciertos atmósfera y rocía sobre la superficie del tubo de refuerzo a altas velocidades para formar densas capas. El tubo de refuerzo -316L de acero inoxidable (no magnéticos) La dimensión -Según dibujos personalizados parametros de producto
El tema Especificaciones Método de ensayo
La pureza ≥ 99,9%  
 Al Contenido 8-10%  
Densidad ≥2,2 g/cm3    
Las impurezas Fe:  ≤ 350 ppm Ca:  ≤50 ppm Cu:  ≤50 ppm Mg: ≤20 ppm Ni:  ≤20 ppm O:  ≤6000 ppm N:  ≤ 500 ppm El total de la impureza (excluyendo O, N):  ≤1000 ppm ICP El analizador de oxígeno y nitrógeno  
La resistividad eléctrica ≤50 mΩ.cm. Sonda de cuatro metros de la resistividad
Aplicaciones -Para la deposición de SiO2  y Si3N4, películas, que se utilizan para AR las películas de gafas de óptica, LOW-E las gafas, aparatos electrónicos, TFT-LCD, pantallas planas, pantalla táctil gafas.

 

Material Objetivo

VSIR.VN, 2023